80% волфрамови мишени за разпръскване
Форма на целта: плоча, диск, правоъгълник, квадрат, пръстен, кръгъл прът, стъпаловиден диск, стъпаловиден правоъгълник, триъгълник, тръбна мишена, вложена мишена и т.н. или персонализирани според изискванията на клиента и могат да бъдат обработени според чертежите, предоставени от клиент. Ние също така можем да предоставим на клиентите услуги за подвързване на някои целеви материали.
Референтен размер: диаметър По-малък или равен на 355,6 mm (14 инча), дължина По-малка или равна на 1000 mm, ширина По-малка или равна на 200 mm, дебелина По-малка или равна на 20 mm
80% W разпръскващи цели
Какви са процесите за разпръскващи мишени?
Процесът на разпрашване на целта се използва главно в два аспекта: разпрашване на ецване и отлагане на тънък слой.
При нанасяне на тънки филми източникът на разпрашаване се поставя върху целта и се бомбардира от аргонови йони, за да се получи разпрашаване. Ако целевият материал е едно вещество, върху субстрата се образува тънък филм от целевия материал; ако реактивният газ се въведе умишлено в камерата за разпръскване, той химически реагира с разпръснатите целеви атоми и се отлага върху субстрата. Може да се образува съставен филм от целевия материал. Обикновено филмите от смеси или сплави се произвеждат чрез директно разпръскване с мишена от смес или сплав.
Мишена за разпръскване от 80% волфрам и титан
По време на ецване с разпръскване, материалът за ецване се поставя в целевата позиция и се бомбардира от аргонови йони за ецване. Скоростта на ецване е свързана с фактори като добив на разпръскване на целевия материал, плътност на йонния ток и степен на вакуум в камерата за разпрашаване. По време на ецване с разпръскване, разпръснатите целеви атоми трябва да бъдат отстранени от камерата за разпрашаване, доколкото е възможно. Често срещан метод е да се въведе реактивен газ, да реагира с разпръснатите целеви атоми, за да се генерира летлив газ и след това да се изхвърли от камерата за разпрашаване през вакуумна система.
